第十届中国知识产权年会在杭州开幕

来源：经济日报

        以“知识产权与时代同行”为主题的第十届中国知识产权年会在杭州开幕。国家知识产权局局长申长雨在致辞中指出，我国的知识产权事业一步一步实现了从无到有、从小到大的历史性跨越，成为一个名副其实的知识产权大国。现如今，我国每年的专利、商标申请量稳居世界首位，通过《专利合作条约》途径提交的专利申请量和通过《商标国际注册马德里协定》提交的商标申请量，已经分别位居全球第二位和第三位，知识产权创造质量、保护效果、运用效益和国际影响力也在不断提升，开启了知识产权强国建设的新时代。

        申长雨从国内国际两个维度介绍了新时代中国做好知识产权工作的相关举措。一方面，将立足国内，继续坚定不移实施严格的知识产权保护制度，持续营造良好的创新环境和营商环境。在战略规划层面，研究制定面向2035年的知识产权强国战略纲要，推动知识产权强国建设和知识产权战略实施接续推进、压茬进行。在法律制度层面，认真落实新颁布的外商投资法和新修订的商标法，实施更加严格的商标侵权惩罚性赔偿制度。同时，加快推进专利法的修改，建立侵权惩罚性赔偿制度和药品专利保护期补偿制度，延长外观设计专利保护期。在审查业务层面，持续提升知识产权审查质量和审查效率，提高专利、商标授权的及时性和权利的稳定性。

        另一方面，将着眼国际，更大力度加强知识产权保护国际合作，加快构建多边、周边、小多边、双边“四边联动、协调推进”的知识产权国际合作新格局。围绕多边层面，正在积极推进同世界知识产权组织的合作，推进专利合作条约、国际商标注册马德里体系在中国的普及运用，推进“一带一路”知识产权合作，共同建设技术与创新支持中心（TISC），构建覆盖全国的知识产权信息服务网络。

        世界知识产权组织总干事弗朗西斯·高锐在视频致辞中表示，中国在创新领域取得了杰出成就，在《2019全球创新指数报告》中，中国的表现令世人瞩目，世界排名从第17位上升到第14位，并继续保持这种稳定快速的上升趋势。在过去40多年间，中国在建设一流的知识产权制度方面的表现出类拔萃，源自中国的国际专利、商标、外观设计申请量一直保持增长，凸显了中国在知识产权领域的引领地位。

        世界知识产权组织助理总干事高木善幸、越南科技部副部长范公昨、新加坡知识产权局局长邓鸿森、柬埔寨工业及手工业部国务秘书帕克萨里等中外嘉宾出席年会，并分别就数字变革与知识产权、新时代的知识产权等相关议题发表主旨演讲。

        据了解，此届年会是首次由中国专利信息年会和中国专利年会升级为中国知识产权年会，涵盖了专利、商标、地理标志等多种知识产权，以及运营、服务、维权、立法、司法等多个方面的内容。年会紧紧围绕主题，举办开幕式及主旨演讲、15场论坛、圆桌讨论、发布会等一系列活动，与会代表就经济全球化下的知识产权运营生态链、商标管理策略与品牌价值实现、国际贸易与知识产权海外维权、全球贸易中地理标志的商业化运作、知识产权行政裁决的制度解读和实践分享等议题展开深入讨论。同期还将举办专利信息服务和产品展览、商标展和以“地大物博，标新创异”为主题的中国地理标志展。

        来自世界知识产权组织等国际和地区组织，东盟秘书处和东盟各国知识产权主管机构，我国政府相关部门，国内外知识产权服务机构、高校、科研院所、企业的代表将深入探讨新时代知识产权事业发展的新思路新举措。