羅宏副所長は、中国商標年会に出席した

「代表的な商標事例の検討および分析フォーラム」主催

2010年8月31日から9月4日まで、中国青海省西寧において、「2010中国商標年会」（2010 China Trademark Annual Meeting）が開催された。中国商標年会は、中華商標境界が主催する年会で、中国における最大の商標関係のイベントである。2005年から毎年開催されており、今回で6年目の年会となる。（なお、商標年会は、2年に1度「商標祭」（Trademark Festival）として開催される。）

今年の中国商標年会のテーマは、「商標戦略の実施の促進と発展パターンの変化の促進」であり、世界知的財産権組織およびヨーロッパー共同体、日本、韓国、米国、スイス、ドイツ、ロシア、ブラジル並びに中国香港、マカオなど18カ国および地域の政府長官、知的財産権保護協会の専門家、国家工商総局、最高人民法院、国務院法制弁、商務部、国家版権局などの責任者、および各省、自治区、直轄市の関連部門、中華商標協会加入会員、国内外の有名な企業の代表など、約1000名の参加者を集め開催された。

当所羅宏副所長は、「代表的な商標事例の検討および分析フォーラム」を主催した。同フォーラムにおいて、公安部、最高法院、商標評審委員会、日本弁理士協会、米国William Mitchell College of Lawの代表などは、それぞれ商標刑事犯罪の典型的事例、商標評審の典型的事例、日本企業のブランド戦略、国際商標の典型的抗弁事例などを題とする講演を行なった。

羅宏副所長は、また中華商標協会副会長として、中華商標協会と日本弁理士協会との内部交流に参加し、中日双方の興味を持つ問題、過去一年間の回顧、および今後の一年間の計画などについて、日本側と熱く意見を交わした。

また、次回の商標年会（第4回商標祭）は、来年9月に四川省成都で開催されることが発表された。