国家知的財産権局が《特許審査関係「十二五」計画》を公表

2011年6月21日に、国家知的財産権局は《審査業務「十二五」計画》（「十二五」とは第十二期の五ヵ年を指す）を公表し、過去5年間の活動状況を総括し、今後5年間の発展方針と目標を明らかにした。

計画では、審査業務の改善、人材の育成を含めた各分野の取り組みを強化していく方針が示された。そのうち、2015年末までに特許、実用新案、意匠の総合審査能力が国際レベルに達することを目指し進めていくとしており、数値目標として、特許出願185万、実用新案出願320万、意匠出願300万件の審査を結審し、特許の審査期間は22ヶ月、実用新案と意匠の審査期間は3ヶ月まで短縮させる見込みである。

また、審査効率の向上を図るため、国家知的財産権局は今後5年間内、審査人員数を増やすと共に、全国で特許巡回審査庁を30ヶ所設け、審査業務在宅勤務のテスト運用を推進するする予定もあるという。