中国第一部《集成电路布图设计保护条例》即将生效

根据新华社4月19日的消息，中国国务院近期通过了《集成电路布图设计保护条例》，将于2001年10月1日起生效。至此，中国有了第一部保护集成电路布图设计的条例。

《条例》共有6章，分别是总则、布图设计专有权、布图设计的登记、布图设计专有权的行使、法律责任和附则，共36条。

《条例》规定，中国自然人，法人或者其他组织创作的布图设计；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。

《条例》规定，布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

根据《条例》，国家知识产权局负责布图设计的申请审理，登记、复审和行政执法等具体管理工作。据悉，国家知识产权局正在着手制定具体的实施办法。

自2001年7月1日起，任何人对国家知识产权局2001年7月1日之前已经受理撤销请求、但尚未作出审查决定的专利权，可以提出宣告该专利权无效的请求。

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